2020年中國光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和競爭分析
2020-08-12 10:48
前瞻網(wǎng)
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技術發(fā)展——技術仍在不斷進步中
光刻機一般可以分為無掩模光刻機和有掩模光刻機,其具體分類如下:
光刻工藝流程較多,占晶圓制造耗時的40%-50%,光刻技術也在不斷的發(fā)展,自光刻機面世以來,光刻設備已經(jīng)進行了四次重大的革新,光刻設備所用的光源,也從最初的g-line,i-line歷經(jīng)KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。目前,EUV光刻機設備被ASML完全壟斷,ASML的EUV光刻機市占率達到100%。
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