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2020年中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和競(jìng)爭(zhēng)分析

技術(shù)發(fā)展——技術(shù)仍在不斷進(jìn)步中

光刻機(jī)一般可以分為無(wú)掩模光刻機(jī)和有掩模光刻機(jī)，其具體分類(lèi)如下：

圖表5：光刻機(jī)分類(lèi)

光刻工藝流程較多，占晶圓制造耗時(shí)的40％－50％，光刻技術(shù)也在不斷的發(fā)展，自光刻機(jī)面世以來(lái)，光刻設(shè)備已經(jīng)進(jìn)行了四次重大的革新，光刻設(shè)備所用的光源，也從最初的g－line，i－line歷經(jīng)KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。目前，EUV光刻機(jī)設(shè)備被ASML完全壟斷，ASML的EUV光刻機(jī)市占率達(dá)到100％。

圖表6：光刻工藝步驟

圖表7：光刻機(jī)技術(shù)發(fā)展歷程

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